Boor Sputterend Doel

Beschrijving boorsputterdoel

Het sputterproces bestaat voornamelijk uit het afzetten van een dunne film van ultrazuiver gesputterd metaal of oxidemateriaal op een ander vast substraat, en het regelen van de verwijdering en omzetting van het doelmateriaal in een gerichte gas-/plasmafase door middel van ionenbombardement. Boor is een laag voorkomend element in het zonnestelsel en de aardkorst. Het is een zwakke geleider bij kamertemperatuur en een goede geleider bij hoge temperatuur. Boron Sputtering Target heeft uitstekende fysische en chemische eigenschappen, hoog smeltpunt, kleinste gemiddelde korrelgrootte, corrosieweerstand bij hoge temperaturen, goede duurzaamheid, goede elektrische geleidbaarheid en hoge kostenprestaties. Het is een proces van chemische dampafzetting (CVD) en fysische dampafzetting (PVD) van uitstekende voorbereidingsmaterialen. Boorsputterdoelen worden veel gebruikt, voornamelijk in de nucleaire industrie, de glascoatingindustrie, de elektronische informatie-industrie, de chemische industrie, de biomedische industrie, de ruimtevaartindustrie, hoogwaardige decoratieve producten en de metaalsmeltindustrie, enz.

Boron sputterdoelspecificaties:

Boor sputterende doelafbeeldingen:

Populaire tags: boor sputterdoel, leveranciers, fabrikanten, fabriek, aangepast, groothandel, prijs, offerte, te koop