+8613140018814
Platina sputterdoel
video
Platina sputterdoel

Platina sputterdoel

FANMETAL levert het platina sputterdoel en andere edele metalen sputterdoelen die worden gebruikt in het PVD-coatingsysteem. Zoals Au goud sputterdoel, Ag zilver sputterdoel, Pt platina sputterdoel, Ir iridium sputterdoel, Ru ruthenium sputterdoel.
Aanvraag sturen
Product Details ofPlatina sputterdoel

Platina sputterdoel

FANMETAL levert het platina sputterdoel en andere edele metalen sputterdoelen die worden gebruikt in het PVD-coatingsysteem. Zoals Au goud sputterdoel, Ag zilver sputterdoel, Pt platina sputterdoel, Ir iridium sputterdoel, Ru ruthenium sputterdoel.

Specificatie voor platina (Pt) sputterdoel

productnaamPlatina sputterdoelen
ArtikelcodeST-PE78
Zuiverheid99,95 procent -99,99 procent
VormSchijven, platen, kolomdoelen, buisdoelen, op maat gemaakt-gemaakt
DimensiesRond sputterdoel:
Diameter:<18", thickness:="">0.04"
Rechthoekig sputterdoel:
Lengte:<36", width:=""><12", thickness:="">0.04"
BondingIndium

Platina sputterend doelbeeld




productnaam

Element

zuiver

Smeltpunt graad

Dichtheid (g/cc)

Beschikbare vormen

Hoog zuiver zilver

Ag

4N-5N

961

10.49

Draad, blad, deeltje, doel

Hoog zuiver aluminium

Al

4N-6N

660

2.7

Draad, blad, deeltje, doel

Hoog puur goud

Au

4N-5N

1062

19.32

Draad, blad, deeltje, doel

Hoog zuiver bismut

Bi

5N-6N

271.4

9.79

Deeltje, doel

Hoog zuiver cadmium

CD

5N-7N

321.1

8.65

Deeltje, doel

Hoog zuiver kobalt

Co

4N

1495

8.9

Deeltje, doel

Hoog zuiver chroom

Cr

3N-4N

1890

7.2

Deeltje, doel

Hoog zuiver koper

Cu

3N-6N

1083

8.92

Draad, blad, deeltje, doel

Hoge Zuivere Ferro

Fe

3N-4N

1535

7.86

Deeltje, doel

Hoog zuiver Germanium

Ge

5N-6N

937

5.35

Deeltje, doel

Hoog zuiver indium

In

5N-6N

157

7.3

Deeltje, doel

Hoog zuiver magnesium

Mg

4N

651

1.74

Draad, deeltje, doel

Hoog zuiver magnesium

Mn

3N

1244

7.2

Draad, deeltje, doel

Hoog zuiver molybdeen

Mo

4N

2617

10.22

Draad, blad, deeltje, doel

Hoog zuiver niobium

Nb

4N

2468

8.55

Draad, doel

Hoog zuiver nikkel

Ni

3N-5N

1453

8.9

Draad, blad, deeltje, doel

Hoog zuiver lood

Pb

4N-6N

328

11.34

Deeltje, doel

Hoog zuiver palladium

Pd

3N-4N

1555

12.02

Draad, blad, deeltje, doel

Hoog puur platina

pt

3N-4N

1774

21.5

Draad, blad, deeltje, doel

Hoog zuiver silicium

Si

5N-7N

1410

2.42

Deeltje, doel

Hoog puur tin

sn

5N-6N

232

7.75

Draad, deeltje, doel

Hoog zuiver tantaal

Ta

4N

2996

16.6

Draad, blad, deeltje, doel

Hoog zuiver tellurium

Te

4N-6N

425

6.25

Deeltje, doel

Hoog zuiver titanium

Ti

4N-5N

1675

4.5

Draad, deeltje, doel

Hoog zuiver wolfraam

W

3N5-4N

3410

19.3

Draad, blad, deeltje, doel

Hoog zuiver zink

Zn

4N-6N

419

7.14

Draad, blad, deeltje, doel

Hoog zuiver zirkonium

Zr

4N

1477

6.4

Draad, blad, deeltje, doel



Sputterdoelen met hoge-zuiverheid en hoge-dichtheid zijn onder meer:

Sputterdoel (zuiverheid: 99,9 procent -99,999 procent)

1. Metalen doel:

Nikkel doel, Ni, titanium doel, Ti, zink doel, Zn, chroom doel, Cr, magnesium doel, Mg, niobium doel, Nb, tin doel, Sn, aluminium doel, Al, indium doel, In, ijzer doel, Fe, Zirkonium aluminium doel, ZrAl, titanium aluminium doel, TiAl, zirkonium doel, Zr, aluminium silicium doel, AlSi, silicium doel, Si, koper doel Cu, tantaal doel T, a, germanium doel, Ge, zilver doel, Ag, kobalt doel , Co, gouden doel, Au, gadolinium doel, Gd, lanthaan doel, La, yttrium doel, Y, cerium doel, Ce, wolfraam doel, w, roestvrijstalen doel, nikkel-chroom doel, NiCr, hafnium doel , Hf, molybdeendoel, metalen sputterdoelen zoals Mo, Fe-Ni doelen, FeNi, Tungsten doelen en W doelen.


Populaire tags: platina sputterdoel, leveranciers, fabrikanten, fabriek, aangepast, groothandel, prijs, offerte, te koop

Volgende
No

Aanvraag sturen

(0/10)

clearall