Hoge zuiverheid zirkonium sputterdoelen

Hoge zuiverheid zirkonium sputterdoelen Beschrijving

High Purity Zirconium Sputtering Targets gebruiken voornamelijk zirkoniumspons en zirkoniumkristalstaaf als grondstoffen. Hoewel de kosten van kristalstaaf hoger zijn dan die van zirkoniumspons, heeft deze minder onzuiverheden en een hoge zuiverheid. Het is een ideaal materiaal voor het vervaardigen van sputterdoelen. Dit komt omdat de zuiverheid van het materiaal nauw verband houdt met de kwaliteit van de sputterfilmcoating. Hoe hoger de zuiverheid van het materiaal, hoe langer de hechting, slijtvastheid en levensduur van de coating, en hoe sterker het beschermingseffect op het product. Vergeleken met titanium targets, hebben High Purity Zirconium Sputtering Targets een hogere corrosieweerstand, betere ductiliteit en niet-magnetische eigenschappen, en kunnen ze in verschillende vormen gegoten worden (rond, plaat of buis). We kunnen een reeks zirkoniummetaalproducten leveren met concurrerende prijzen en levertijden, zoalsZirkonium staaf,Zirkonium smeltkroesen zirkonium 702 buis, enz. Neem indien nodig contact met ons op via e-mail, we zullen ons best doen om aan uw behoeften te voldoen.

Hoge zuiverheid zirkonium sputterdoelen specificaties:

Foto's van zeer zuivere zirkonium sputterdoelen:

Populaire tags: hoge zuiverheid zirkonium sputterdoelen, leveranciers, fabrikanten, fabriek, aangepast, groothandel, prijs, offerte, te koop