Sputterend doel

Wolfraam circulaire sputterdoelen

Beschrijving van wolfraam circulaire sputterdoelen Wolfraam, als veelgebruikt doelmateriaal, speelt een belangrijke rol in röntgenbuizen. De kathode-werktemperatuur is ongeveer 2000K. De uitgezonden

Toevoegen aan onderzoek
Hoogzuivere wolfraam ronde doelen

Beschrijving van High Purity Tungsten Round Targets High Purity Tungsten Round Targets zijn de meest gebruikte targetmaterialen vergeleken met berylliumvensters. Ze hebben hoge atomaire

Toevoegen aan onderzoek
PVD 4N Nikkel Sputterdoel

Beschrijving van het PVD 4N-nikkel-sputtertarget Het PVD 4N-nikkel-sputtertarget is een target gemaakt van nikkelmateriaal met een hoge zuiverheid voor PVD-technologie. Hiermee kunnen dunne films met

Toevoegen aan onderzoek
Titanium aluminium ronde doelen

Ronde doelen van titaniumaluminium Beschrijving Ronde doelen van titaniumaluminium zijn veelgebruikte metalen doelen voor vacuümcoating. Door het gehalte aan titanium en aluminium te mengen kunnen

Toevoegen aan onderzoek
Boriumdoelen met hoge zuiverheid

Boriumdoelen met hoge zuiverheid Kenmerken en toepassing Het coatingdoel is een sputterbron die verschillende functionele films op het substraat vormt door magnetronsputteren, multi-arc ion-plating

Toevoegen aan onderzoek
99,99% nikkelronde doelwit

99,99% nikkelronde Doelbeschrijving Sputtering Target verwijst naar de grondstof die wordt gebruikt in het sputterdepositieproces. Het verwijst naar het proces waarin atomen worden uitgeworpen uit

Toevoegen aan onderzoek
Doelwit van zuiver nikkelmetaal

Puur Nikkelmetaal Doelbeschrijving Nikkel is een zilverwit metaal met magnetische eigenschappen en goede plasticiteit, voornamelijk gebruikt in legeringen (zoals nikkelstaal en nikkelzilver) en als

Toevoegen aan onderzoek
Nikkel Ni sputterdoel

Nikkel Ni-sputterdoel Kenmerken en toepassing Nikkel is een zilverwit metalen element met goede ductiliteit, taaiheid en een hoog smeltpunt. In de industrie wordt nikkel vaak gebruikt bij de

Toevoegen aan onderzoek
99,99% nikkelsputterdoelen

99,99% nikkelsputterdoelen Beschrijving Het doelmateriaal is het materiaal dat wordt gebruikt als bron van sputteren of verdamping in het proces van fysische dampafzetting (PVD) of chemische

Toevoegen aan onderzoek
Hoge zuiverheid 4N nikkelsputterdoel

Hoge zuiverheid 4N nikkel sputterdoel Beschrijving Hoge zuiverheid 4N nikkel sputterdoel is gemaakt van zeer zuiver nikkelmateriaal na poedermetallurgie en smeedpolijsten. Het kan worden bereid door

Toevoegen aan onderzoek
Chroom roterend sputterdoel

Chroom Rotary Sputter Target Beschrijving Chroom heeft een goede oxidatieweerstand en corrosieweerstand en kan in de natuurlijke omgeving een stabiele oxidefilm vormen om het metaal tegen verdere

Toevoegen aan onderzoek
Zirkonium 702 rond sputterdoel

Zirkonium 702 rond sputterdoel Beschrijving Dunne filmafzetting (coating) is het proces van het vormen en afzetten van dunne filmcoatings op substraatmaterialen die kunnen worden gebruikt om bepaalde

Toevoegen aan onderzoek

We staan bekend als een van de toonaangevende fabrikanten en leveranciers van sputterdoelen in China. Als u een sputterdoel van hoge kwaliteit met een concurrerende prijs gaat kopen, ontvangt u een offerte van onze fabriek. Ook is service op maat beschikbaar.

(0/10)