Metalen sputterdoel

Ronde doelen van titaniumchroomlegering

Ronde doelen van titaniumchroomlegering kunnen worden gebruikt om substraten of oppervlaktecoatings te maken, en kunnen worden gebruikt op het gebied van mechanische messen, auto- en motordecoratie,

Toevoegen aan onderzoek
Planair doel van titaniumchroom

Titanium Chromium Planar Target is zeer geschikt voor het sputteren van corrosiebestendige en slijtvaste coatings, die apparatuur die werkt in sterk corrosieve chemische omgevingen en omgevingen met

Toevoegen aan onderzoek
Sputterdoelen van titanium aluminium

Titanium Aluminium Sputter Targets heeft de uitstekende eigenschappen van metaal titanium en metaal aluminium, zoals hoge ductiliteit, hoge slijtvastheid, uitstekende elektrische en thermische

Toevoegen aan onderzoek
Titanium-aluminium doelen

Titanium-aluminium doelen kunnen de hardheid en levensduur van snijgereedschappen verbeteren en worden veel gebruikt in coatings voor hardwaretools, decoratieve coatings, coatings voor platte

Toevoegen aan onderzoek
Titanium Ti Sputterdoel

Titanium Ti Sputtering Target wordt vaak gebruikt voor sputterafzetting van pure titaniumfilm of reactieve sputterafzetting van TiN-film, voornamelijk gebruikt als een diffusiebarrièrelaag onderling

Toevoegen aan onderzoek
99,99 procent pure titanium doelen

99,99 procent Pure Titanium Targets hebben niet alleen de voordelen van hoge zuiverheid, goede slijtvastheid, lange levensduur en hoge coatingkwaliteit, maar bevatten ook alle uitstekende

Toevoegen aan onderzoek
Sputterdoelen van titanium-silicium

Titanium-silicium sputterdoelen Beschrijving Titanium-silicium sputterdoelen kunnen nitrideharde materiaallagen met uitstekende eigenschappen bieden, omdat silicium een hoge oxidatieweerstand

Toevoegen aan onderzoek
Doelwit van titaniumchroomlegering

Productintroductie van titaniumchroomlegering Doel: Titanium is een sterk materiaal dat veel wordt gebruikt op verschillende gebieden, zoals horloges, biomedische implantaten, boren en laptops.

Toevoegen aan onderzoek
Titanium Chroom Rond Doel

Titanium Chromium Round Target Beschrijving Titanium Chromium Round Target bevat de uitstekende eigenschappen van titanium en chroom, zoals hoge sterkte, lichtgewicht, goede biocompatibiliteit,

Toevoegen aan onderzoek
Hoogzuiver zirkonium vlak sputterdoel

High Purity Zirconium Planar Sputtering Target Inleiding Zirkonium is een zilvergrijs metaal met een uitstekende corrosieweerstand. Het kan een dichte oxidefilm op het oppervlak vormen, waardoor het

Toevoegen aan onderzoek
Zirkonium vlak doelwit

Productintroductie van Zirconium Planar Target: Zirconium Planar Target wordt vervaardigd door middel van geavanceerd heet isostatisch persen (HIP) en poedermetallurgieproces, dat de kenmerken heeft

Toevoegen aan onderzoek
Titanium Silicium Sputter Rond Doel

Titanium Silicium Sputter Rond Doel Kenmerken & Toepassing Als een essentieel materiaal voor het sputterproces (coatingproces), zijn metalen sputterdoelen over het algemeen gemaakt van materialen met

Toevoegen aan onderzoek

Huis 2 3 4 5 6 7 8 De laatste pagina 5/10

We staan bekend als een van de toonaangevende fabrikanten en leveranciers van metalen sputterdoelen in China. Als u een metalen sputterdoel van hoge kwaliteit met een concurrerende prijs gaat kopen, ontvangt u een offerte van onze fabriek. Ook is service op maat beschikbaar.

(0/10)