Metaalsputterdoelen worden voornamelijk gebruikt in de elektronica- en informatie-industrie, zoals geïntegreerde schakelingen, informatieopslag, LCD-schermen, lasergeheugens, elektronische besturingsapparatuur, enz. Ze kunnen ook op grote schaal worden gebruikt op het gebied van glascoating, slijtvast gereedschap productie- en hogetemperatuurverwerkende industrieën. , hoogwaardige decoratieve benodigdheden en andere industrieën. FANMETAL heeft jarenlange ervaring in het produceren van non-ferrometaalproducten en beschikt tevens over geavanceerde verwerkingsapparatuur. Het kan klanten in binnen- en buitenland voorzien van hoogwaardige en kosteneffectieve metaal- of legeringsdoelproducten zoalsnikkel doelen, chroomdoelen, molybdeendoelen, wolfraamdoelen,Sputterdoelen van titaniumaluminium,enz.
1. Zuiverheid
Voor alle metalen is zuiverheid een van de belangrijkste prestatie-indicatoren van het doelmateriaal. De zuiverheid van het doelmateriaal heeft een grote invloed op de prestatie van de film. Afhankelijk van de daadwerkelijke toepassingsapparatuur zijn de zuiverheidseisen voor het doelmateriaal echter ook verschillend. In elektronische apparatuur met hoge precisie zijn bijvoorbeeld coatingdoelen met een hoge zuiverheid vereist.
2. Onzuiverheidsgehalte
Na een reeks doelprocessen zijn onzuiverheden in de vaste stof en zuurstof en waterdamp in de poriën de belangrijkste bronnen van vervuiling voor afgezette films. Omdat hun toepassingen verschillend zijn, stellen doelen voor verschillende toepassingen ook verschillende vereisten voor verschillende onzuiverheidsgehalten. De huidige doelen van zuiver aluminium en aluminiumlegeringen die in halfgeleiders worden gebruikt, stellen bijvoorbeeld speciale eisen aan het gehalte aan alkalimetalen en radioactieve elementen.
3. Dichtheid
Bij het doeltechnologieproces is het, om de poriën in de vaste stof van het doel te verkleinen en de prestaties van de gesputterde film te verbeteren, in het algemeen vereist dat het doelmateriaal een hogere dichtheid moet hebben. Omdat de belangrijkste karakteristieke dichtheid van het doel een grote invloed heeft op de sputtersnelheid en de elektrische en optische eigenschappen van de film beïnvloedt. Hoe hoger de doeldichtheid, hoe beter de prestaties van de film.
4. Korrelgrootte en korrelgrootteverdeling
Meestal heeft het doelmateriaal een polykristallijne structuur en kan de korrelgrootte variëren van microns tot millimeters. Voor hetzelfde doelmateriaal is de sputtersnelheid van een doel met fijne korrels hoger dan die van een doel met grove korrels; terwijl een doel met een kleiner verschil in korrelgrootte (uniforme verdeling) een meer uniforme dikteverdeling van de door sputteren afgezette film zal hebben.
